206:
131:
24:
557:
860:
805:
One method is based on the difference in the reducibility between the two tetrahalides. The tetrahalides can in be separated by selectively reducing the zirconium compound to one or more lower halides or even zirconium. The hafnium tetrachloride remains substantially unchanged during the reduction
850:
in gas phase showed that the Hf-Cl internuclear distance is 2.33 Å and the Cl...Cl internuclear distance is 3.80 Å. The ratio of intenuclear distances r(Me-Cl)/r(Cl...Cl) is 1.630 and this value agrees well with the value for the regular tetrahedron model (1.633).
1716:
Graham, A. B.; Grigg, R.; Dunn, P. J.; Higginson, P. (2000). "Tandem 1,3-azaprotiocyclotransfer–cycloaddition reactions between aldoximes and divinyl ketone. Remarkable rate enhancement and control of cycloaddition regiochemistry by hafnium(iv) chloride".
834:
with octahedral Hf centers. Of the six chloride ligands surrounding each Hf centre, two chloride ligands are terminal and four bridge to another Hf centre. In the gas phase, both ZrCl
1448:
Spiridonov, V. P.; Akishin, P. A.; Tsirel'Nikov, V. I. (1962). "Electronographic investigation of the structure of zirconium and hafnium tetrachloride molecules in the gas phase".
1313:
570:
806:
and may be recovered readily from the zirconium subhalides. Hafnium tetrachloride is volatile and can therefore easily be separated from the involatile zirconium trihalide.
1629:
Riehl, M. E.; Wilson, S. R.; Girolami, G. S. (1993). "Synthesis, X-ray
Crystal Structure, and Phosphine-Exchange Reactions of the Hafnium(III)-Hafnium(III) Dimer Hf
255:
1832:
764:
is 156.4 pm for hafnium, whereas that of Zr is 160 pm. These two metals undergo similar reactions and form similar coordination complexes.
1689:
Ahn, S.; Song, Y. S.; Yoo, B. R.; Jung, I. N. (2000). "Lewis Acid-Catalyzed
Friedel−Crafts Alkylation of Ferrocene with Allylchlorosilanes".
1613:
1536:
1276:
1183:
increases the rate and control of 1,3-dipolar cycloadditions. It was found to yield better results than other Lewis acids when used with
2084:
1398:
492:
1967:
1358:
1289:
220:
1825:
1772:
431:
1483:
Palko, A. A.; Ryon, A. D.; Kuhn, D. W. (1958). "The Vapor
Pressures of Zirconium Tetrachloride and Hafnium Tetrachloride".
1674:
577:
1138:
163:
783:. The log (base 10) of the vapor pressure of solid hafnium chloride (from 476 to 681 K) is given by the equation: log
944:
Because this complex is soluble in organic solvents, it is a useful reagent for preparing other complexes of hafnium.
184:
737:. Hafnium and zirconium compounds are extracted from ores together and converted to a mixture of the tetrachlorides.
3779:
3442:
2429:
1818:
1767:
1391:
Halides, oxyhalides and salts of halogen complexes of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium and tantalum
3723:
3699:
3608:
1208:
2399:
2149:
3716:
3615:
3526:
3503:
3465:
2841:
2834:
2447:
2035:
1005:
612:
compounds. It has a variety of highly specialized applications, mainly in materials science and as a catalyst.
88:
3691:
3675:
3660:
3652:
3572:
3519:
3457:
3426:
2996:
2978:
2892:
2885:
2870:
2855:
2827:
2790:
2697:
2612:
2077:
1947:
1212:
776:
3076:
126:
3784:
3706:
3668:
3585:
3565:
3495:
3480:
3450:
3302:
3098:
3069:
3053:
2970:
2908:
2878:
2863:
2848:
2797:
2783:
2742:
2678:
2605:
2590:
2568:
2561:
2546:
2539:
2440:
2387:
2361:
1562:
1228:
1083:
539:
3637:
3630:
3623:
3593:
3557:
3534:
3511:
3473:
3310:
3214:
3207:
3199:
3192:
3141:
3127:
3119:
3105:
3091:
2900:
2805:
2775:
2724:
2712:
2597:
2583:
2554:
2532:
2421:
2350:
2167:
1931:
1528:
1169:
1126:
605:
535:
512:
414:
36:
23:
1129:
shows that the complex adopts an edge-shared bioctahedral structure, very similar to the Zr analogue.
3683:
3644:
3600:
3550:
3542:
3434:
3264:
3260:
3252:
3226:
3185:
3163:
3148:
3134:
3112:
3083:
2989:
2963:
2940:
2812:
2750:
2690:
2642:
2575:
2477:
2354:
2327:
2305:
2238:
2219:
2062:
2047:
2003:
1915:
1781:
1740:
Choi, J. H.; Mao, Y.; Chang, J. P. (2011). "Development of hafnium based high-k materials—A review".
1009:
629:
721:
occur together in minerals such as zircon, cyrtolite and baddeleyite. Zircon contains 0.05% to 2.0%
3488:
3295:
3241:
3170:
3156:
3027:
3004:
2933:
2819:
2735:
2705:
2682:
2662:
2650:
2635:
2510:
2459:
2316:
2275:
2197:
1879:
674:
516:
201:
54:
3774:
3233:
3177:
3016:
3008:
2929:
2765:
2658:
2627:
2505:
2454:
2410:
2391:
2379:
2338:
2230:
2130:
2070:
1939:
1797:
1465:
593:
520:
1192:
1168:
is alkylated with allyldimethylchlorosilane more efficiently using hafnium chloride relative to
1239:
was phased out by metal-organic precursors, such as tetrakis ethylmethylamino hafnium (TEMAH).
1227:
in manufacture of modern high-density integrated circuits. However, due to its relatively low
3320:
3279:
3272:
2760:
2719:
2620:
2524:
2470:
2294:
2283:
2256:
2186:
2160:
2138:
2109:
2019:
2011:
1983:
1841:
1609:
1532:
1394:
1354:
1285:
1232:
1224:
1161:
876:
757:
486:
359:
1669:
3287:
3222:
3037:
3020:
2955:
2948:
2921:
2514:
2484:
2298:
2252:
2226:
2208:
2125:
1903:
1874:
1855:
1789:
1749:
1722:
1698:
1650:
1601:
1571:
1520:
1500:
1492:
1457:
1346:
1220:
1079:
956:
597:
389:
332:
278:
172:
108:
64:
3325:
3042:
2916:
2374:
2178:
1991:
1898:
1216:
952:
823:
722:
205:
130:
1785:
2264:
2245:
1591:
Manzer, L. E. (1982). "Tetrahydrofuran
Complexes of Selected Early Transition Metals".
899:
Aged samples thus often are contaminated with oxychlorides, which are also colourless.
609:
548:
369:
343:
3768:
3344:
2670:
1801:
1793:
1593:
761:
633:
321:
119:
1469:
1642:
1505:
780:
702:
670:
152:
3739:
2345:
1122:
474:
450:
377:
1770:(2006). "High dielectric constant gate oxides for metal oxide Si transistors".
1753:
1605:
1350:
3360:
3336:
1576:
1553:
1431:
1305:
365:
293:
99:
1281:
1188:
1165:
1146:
906:
753:
718:
1137:
Hafnium tetrachloride is the precursor to highly active catalysts for the
3747:
2492:
2094:
666:
1654:
1496:
3731:
3372:
3352:
1461:
831:
819:
749:
714:
311:
139:
1702:
1726:
1150:
1142:
815:
799:
1810:
547:
Except where otherwise noted, data are given for materials in their
1393:. Vol. 40 (1st ed.). Oxford: Pergamon. pp. 176–177.
859:
858:
87:
77:
1184:
795:
2066:
1814:
902:
529:
506:
1429:
Newnham, Ivan Edgar "Purification of
Hafnium Tetrachloride".
1310:
Immediately
Dangerous to Life or Health Concentrations (IDLH)
1415:
Analytical
Chemistry of the Elements: Zirconium and Hafnium.
189:
779:, fractional precipitation, fractional crystallization and
1160:
is an effective Lewis acid for various applications in
842:
adopt the monomeric tetrahedral structure seen for TiCl
802:. (The pressure at the melting point is 23,000 torrs.)
767:
A number of processes have been proposed to purify HfCl
565:
1341:
Hummers, W. S.; Tyree, Jr., S. Y.; Yolles, S. (1953).
1314:
National
Institute for Occupational Safety and Health
959:. In this way, tetrabenzylhafnium can be prepared.
1891:
1867:
1848:
1670:"Combinatorial Materials: Finding Catalysts Faster"
1376:
Chapters in the chemistry of less familiar elements
1345:. Inorganic Syntheses. Vol. 4. p. 121.
151:
1552:Duraj, S. A.; Towns; Baker; Schupp, J. (1990).
1328:Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology
733:and baddeleyite contains 1.0 to 1.8 percent HfO
624:can be produced by several related procedures:
63:
1066:These compounds adopt complicated structures.
2078:
1826:
1742:Materials Science and Engineering: R: Reports
8:
1558:-Tetrachlorobis(tetrahydrofuran)hafnium(IV)"
1078:is especially difficult. In the presence of
794:+ 11.712, where the pressure is measured in
1425:
1423:
2085:
2071:
2063:
1833:
1819:
1811:
1172:. The greater size of Hf may diminish HfCl
1149:. Typical catalysts are derived from tetra
204:
129:
107:
15:
1575:
1504:
846:. Electronographic investigations of HfCl
171:
3709:
1413:Elinson, S. V. and Petrov, K. I. (1969)
1042:
1038:
1034:
1030:
1026:
1022:
1018:
997:
993:
989:
985:
981:
977:
973:
969:
965:
1247:
260:
225:
200:
2115:
2093:Salts and covalent derivatives of the
760:. Their atomic radii are similar: the
748:is difficult because the compounds of
326:432 °C (810 °F; 705 K)
120:
3415:
1443:
1441:
1374:Hopkins, B. S. (1939). "13 Hafnium".
1277:CRC Handbook of Chemistry and Physics
1253:
1251:
1176:'s tendency to complex to ferrocene.
1050:With alcohols, alkoxides are formed.
705:of hafnium carbide above 250 °C.
232:Key: PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J
7:
2105:
1343:Zirconium and Hafnium Tetrachlorides
1330:. Vol. 11 (4th ed.). 1991.
1121:The deep green dihafnium product is
242:Key: PDPJQWYGJJBYLF-XBHQNQODAR
229:InChI=1S/4ClH.Hf/h4*1H;/q;;;;+4/p-4
142:
1231:and corrosive byproducts (namely,
1207:was considered as a precursor for
875:The compound hydrolyzes, evolving
239:InChI=1/4ClH.Hf/h4*1H;/q;;;;+4/p-4
14:
1485:The Journal of Physical Chemistry
1280:(92nd ed.). Boca Raton, FL:
1082:, reduction can be effected with
1004:Similarly, salt metathesis with
1274:Haynes, William M., ed. (2011).
729:, cyrtolite with 5.5% to 17% HfO
661:Chlorination of a mixture of HfO
555:
22:
1450:Journal of Structural Chemistry
1378:. Stipes Publishing. p. 7.
756:have very similar chemical and
604:. This colourless solid is the
551:(at 25 °C , 100 kPa).
1773:Reports on Progress in Physics
432:Occupational safety and health
1:
1675:Chemical and Engineering News
1199:Microelectronics applications
1191:aldoximes, allowing specific
1139:Ziegler-Natta polymerization
1306:"Hafnium compounds (as Hf)"
1257:Niewa R., Jacobs H. (1995)
463:or concentration (LD, LC):
298:320.302 g/mol
3801:
3417:
1794:10.1088/0034-4885/69/2/R02
1754:10.1016/j.mser.2010.12.001
1606:10.1002/9780470132524.ch31
1351:10.1002/9780470132357.ch41
2117:
2102:
1668:Ron Dagani (2003-04-07).
1577:10.1107/S010827018901382X
1525:Chemistry of the Elements
1523:; Earnshaw, Alan (1997).
1209:chemical vapor deposition
545:
498:
459:
429:
424:
352:
271:
251:
216:
47:
35:
30:
21:
1006:sodium cyclopentadienide
669:above 600 °C using
403: = 0.7377 nm,
399: = 0.6327 nm,
306:white crystalline solid
1719:Chemical Communications
1506:2027/mdp.39015086446302
1213:atomic layer deposition
777:fractional distillation
710:Separation of Zr and Hf
481:2362 mg/kg (rat, oral)
445:irritant and corrosive
1563:Acta Crystallographica
1084:potassium-sodium alloy
872:
740:The separation of HfCl
540:Zirconium(IV) chloride
348:1 mmHg at 190 °C
1529:Butterworth-Heinemann
1521:Greenwood, Norman N.
1432:U.S. patent 2,961,293
1170:aluminium trichloride
1127:X-ray crystallography
1058:+ 4 ROH → Hf(OR)
862:
810:Structure and bonding
636:at above 450 °C;
536:Titanium(IV) chloride
513:Hafnium tetrafluoride
415:Coordination geometry
42:Hafnium tetrachloride
17:Hafnium(IV) chloride
1531:. pp. 964–966.
1010:hafnocene dichloride
630:carbon tetrachloride
590:Hafnium(IV) chloride
407: = 0.62 nm
40:Hafnium(IV) chloride
1786:2006RPPh...69..327R
1655:10.1021/ic00054a017
1497:10.1021/j150561a017
1389:Hála, Jiri (1989).
798:and temperature in
758:physical properties
675:sulfur monochloride
517:Hafnium(IV) bromide
333:Solubility in water
18:
1462:10.1007/BF01151485
1435:November 22, 1960.
1225:high-k dielectrics
873:
594:inorganic compound
578:Infobox references
521:Hafnium(IV) iodide
499:Related compounds
16:
3780:Hafnium compounds
3762:
3761:
3756:
3755:
2060:
2059:
1842:Hafnium compounds
1721:(20): 2035–2036.
1703:10.1021/om0000865
1615:978-0-470-13252-4
1538:978-0-08-037941-8
1162:organic synthesis
1080:phosphine ligands
1074:Reduction of HfCl
957:Grignard reagents
877:hydrogen chloride
863:Structure of HfCl
586:Chemical compound
584:
583:
487:Safety data sheet
360:Crystal structure
185:CompTox Dashboard
89:Interactive image
3792:
3712:
2106:
2087:
2080:
2073:
2064:
1835:
1828:
1821:
1812:
1806:
1805:
1764:
1758:
1757:
1737:
1731:
1730:
1727:10.1039/b005389i
1713:
1707:
1706:
1686:
1680:
1679:
1665:
1659:
1658:
1626:
1620:
1619:
1588:
1582:
1581:
1579:
1549:
1543:
1542:
1527:(2nd ed.).
1517:
1511:
1510:
1508:
1480:
1474:
1473:
1445:
1436:
1434:
1427:
1418:
1411:
1405:
1404:
1386:
1380:
1379:
1371:
1365:
1364:
1338:
1332:
1331:
1324:
1318:
1317:
1302:
1296:
1295:
1284:. p. 4.66.
1271:
1265:
1255:
1221:hafnium silicate
1094:+ 2 K + 4 P(C
1046:
1000:
628:The reaction of
608:to most hafnium
568:
562:
559:
558:
390:Lattice constant
279:Chemical formula
209:
208:
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